PFA ad elevata purezza GC403
Progettato per la produzione di wafer a nodi sub-nanometrici. Massima inerzia chimica ed estrazione di impurità metalliche prossima allo zero.
Sviluppata per superare i limiti di contaminazione più severi delle camere bianche e fabbriche di chip avanzate.
Il controllo rigoroso della polimerizzazione impedisce il rilascio ionico nei bagni chimici aggressivi di incisione (HF, SPM, SC-1 e SC-2).
Mantenimento dell'integrità meccanica, resistenza alla trazione e tenuta ermetica anche durante cicli termici prolungati con acidi caldi.
Resistenza insuperabile allo stress cracking ambientale (ESC) per membrane di pompe e valvole sottoposte a continue pulsazioni dinamiche di pressione.
Formulata per azzerare il rilascio ionico, gli estraibili organici e il deposito di particolato.
Livello minimo garantito per gli ioni metallici critici (Fe, Cu, Ni, Cr, Zn, Ca), proteggendo la resa dei wafer nei processi litografici all'avanguardia.
La fluorurazione completa dei terminali di catena elimina il rilascio organico e il degasaggio chimico in acqua ultrapura (UPW) e solventi di processo.
La superficie interna liscia e non porosa previene l'intrappolamento di particelle, riducendo drasticamente i tempi di risciacquo e qualifica degli impianti.
La conversione totale delle estremità instabili in gruppi inerti $-CF_3$ garantisce assenza di bolle, scolorimento e odori durante la trasformazione allo stato fuso.
Affidabilità e purezza per gli ambienti di fabbricazione di microchip più esigenti.
Estrusione di tubi ultra-lisci per impianti centralizzati di distribuzione chimica (CCDS) per il trasporto di acidi forti (HF, HNO₃, H₂SO₄) e solventi puri.
Stampaggio a iniezione e compressione di raccordi flare a tenuta stagna, corpi valvola e membrane flessibili per pompe a eccezionale ciclo vitale.
Impiego in carrier per wafer e vasche di immersione, con elevata stabilità dimensionale e totale assenza di contaminazione incrociata nei lavaggi SPM.
Eccellente isolamento dielettrico e scudo protettivo chimico per flussimetri, sensori di pressione e rivestimenti di serbatoi di stoccaggio.
La resina Everflon™ PFA GC403 soddisfa e supera le specifiche SEMI (incluso SEMI F57) per i sistemi di trasporto chimico liquido, accelerando la qualifica nei nuovi impianti di produzione microelettronica.
Valori nominali delle proprietà fisiche, termiche e meccaniche del granulo Everflon™ PFA GC403.
| Proprietà / Parametro | Metodo di Prova | Unità | Valore Nominale |
|---|---|---|---|
| Indice di Fluidità (372 °C / 5,0 kg) | ISO 1133 / ASTM D1238 | g/10 min | 1,8 – 2,5 |
| Densità Relativa | ISO 1183 / ASTM D792 | — | 2,15 |
| Resistenza a Trazione (23 °C) | ISO 527 / ASTM D638 | MPa | ≥ 32 |
| Allungamento a Rottura | ISO 527 / ASTM D638 | % | ≥ 350 |
| Punto di Fusione (Picco DSC) | ISO 11357 / ASTM D3418 | °C | 305 – 310 |
| Costante Dielettrica (1 MHz) | IEC 60250 / ASTM D150 | — | 2,1 |
Confezionamento in atmosfera controllata (ISO Classe 5) e parametri termici di estrusione ottimizzati.
Confezionato in doppio sacco di polietilene antistatico ad uso camera bianca (25 kg netti), inserito in fusti rigidi sigillati per prevenire l'ingresso di umidità e particolato aereo.
La temperatura di lavorazione del fuso è compresa tra 350 °C e 390 °C. Non superare i 400 °C per evitare la decomposizione termica del polimero.
Tutti i componenti a contatto con il polimero fuso (viti, cilindri, ugelli, filiere) devono essere realizzati in leghe ad alto tenore di nichel (es. Hastelloy® C-276 o Inconel® 625).
Zona Posteriore (Alimentazione): 330 °C – 350 °C | Zona Centrale (Compressione): 350 °C – 370 °C | Zona Anteriore (Dosaggio): 365 °C – 385 °C | Testa e Filiera: 375 °C – 390 °C
Niente tra voi e la purezza.
Progettato per i momenti in cui la purezza non ammette compromessi.
PFA, oltre ogni limite. Tutte le possibilità, in un’unica visione
Una bella famiglia allargata.
Everflon™+ PFA Concentrato di Colore
Composto Everflon™+ PFA
Dispersione acquosa di Everflon™ PFA
Polvere per stampaggio interno Everflon™ PFA
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